Основатель и генеральный директор Nvidia Дженсен Хуанг заявил, что Китай к 2030 году сможет самостоятельно производить оборудование для передовой литографии чипов. Об этом пишет 3DNews со ссылкой на интервью Хуанга подкасту All-In и разбор Tom’s Hardware.

«Они доберутся туда к 2030 году. Это буквально уже за углом… два или три года — это буквально щелчок», — сказал Хуанг, оценивая способность КНР наладить массовое производство без поставок EUV-систем ASML, запрещённых с 2019 года.

Tom’s Hardware и 3DNews оговаривают, что публичный уровень китайского поставщика SMEE пока ограничен «сухими» сканерами на длине волны 193 нм для техпроцесса около 90 нм. Сообщения о погружном 28-нм сканере есть, но массовых поставок и серийного выпуска на таком оборудовании пока не подтверждено. По EUV работоспособных прототипов сканеров у китайских производителей тоже нет: даже при наличии источника света 13,5 нм до коммерческого паритета с ASML, по оценке авторов обзора, далеко.